高純氧氣主要用于標(biāo)準(zhǔn)氣配制，合肥氧氣，集成電路和半導(dǎo)體器件生產(chǎn)，氣體火焰加工。
對(duì)于MOS場(chǎng)效應(yīng)器件，氧化層必須相當(dāng)致密。與四氟化碳混合，工業(yè)氧氣，用于等離子刻蝕。高純氧用于二氧化硅的化學(xué)氣相淀積；作為氧化源和產(chǎn)生高純水的反應(yīng)劑；采用高純氧氣進(jìn)行干法氧化，其氧化層結(jié)構(gòu)致密，正電荷少，工業(yè)氧氣價(jià)格，耐壓高。還用于金屬的切割和焊接、煉鋼、國(guó)防、電子、化工、冶金等部門。
工業(yè)氧氣
純度(V/V)：99.2%
執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：國(guó)標(biāo)
產(chǎn)品介紹
不燃，無(wú)色無(wú)味無(wú)臭的氣體，液化后成藍(lán)色。
化工和治金中的強(qiáng)氧化劑、制造水煤氣和天然氣、低溫氧化石油i氣、焊接及切割金屬、火箭發(fā)動(dòng)機(jī)、輸氧呼吸裝置、空氣凈化、液態(tài)氧炸i藥、制造用等離子蝕刻、氧化、擴(kuò)散、化學(xué)氣相淀積、標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點(diǎn)氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣、醫(yī)i療氣、光導(dǎo)纖維的制備。
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